Repozytorium
Wyszukaj
Kolekcje
Inne
Słowo kluczowe AVD
2011
Atomic vapor deposition approach to In2O3 thin films.
Hellwig M., Parala H., Cybińska Joanna, Barreca D., Gasparotto A., Niermann B., Becker H. W., Rogalla D., Feydt J., Irsen S., Mudring Anja Verena, Winter J., Fischer R. A., Devi A.