Repozytorium
Wyszukaj
Kolekcje
Inne
Autor publikacji D. Rogalla
2011
Atomic vapor deposition approach to In2O3 thin films.
Hellwig M., Parala H., Cybińska Joanna, Barreca D., Gasparotto A., Niermann B., Becker H. W., Rogalla D., Feydt J., Irsen S., Mudring Anja Verena, Winter J., Fischer R. A., Devi A.